气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　为什么要选择真空烧结炉？ 　　真空烧结炉是在真空的环境中对被加热的物品进行保护性烧结的一类炉子，其加热方式是有很多种的，例如，电阻加热、感应加热、微波加热等。 　　由于工艺上的耐热性，绝缘性和优异的可靠性设计使得真空烧结炉成为了陶瓷材料制造的***。如果没有对比就更显不出来烧结炉这种技术工艺的特点和***性能。尤其是改进后的新型电极结构杜绝了高温炉电极的漏水现象，对于加热系统中的易损件，也更容易更换和维护。 　　据使用者了解，在抽真空后充氢气的保护状态下，真空烧结炉利用中频感应加热的原理，使处于线圈内的钨坩埚产生高温并通过热辐射传导到工作上。适用于科研、军工单位对难熔合金如钨钼及其合金的粉末成型烧结。同时，真空烧结炉在真空或保护气氛条件下利用中频感应加热的原理，使硬质合金刀头及各种金属粉末压制体实现烧结的成套设备，是为硬质合金、金属镝以及陶瓷材料的工业生产而设计的。 　　此外，真空烧结炉现如今被广泛的应用于碳化硅陶瓷的反应烧结工艺，同时也可用于特种陶瓷材料，硬质合金，陶瓷金属复合材料以及难熔金属组成的合金材料的高温真空烧结。针对一些材料的高温烧结工艺使得真空烧结炉具备不错的耐热性、绝缘性以及可靠性的设计。新型电极结构杜绝了高温炉电极的漏水现象，并且可以加热系统中的易损部件，也更便于维修和更换。 　　正因如此，真空烧结炉也大大降低了客户的运行成本和维护成本，使得生产变得易于控制。基本上杜绝了一出问题歇几天，等待厂家派出技术人员前来排除故障恢复生产的情况。基本问题都能够使客户在经过简单的培训后独立解决问题，达到一般问题不用跑，大的问题有维保的效果。