真空甩带炉的结构特点　　真空甩带炉是一种常用于半导体、光电子、新材料等领域的热处理设备，具有以下结构特点：　　1.炉体结构：真空甩带炉的炉体结构通常采用立式设计，由炉膛、耐热隔热层和外壳组成。炉膛内部通常采用高温合金材料或陶瓷材料制成，能够承受高温和真空环境。　　2.甩带机构：真空甩带炉中的主要部件是甩带机构。甩带机构由驱动装置、输送带和张紧装置组成。输送带采用耐高温的合金材料制成，并通过驱动装置带动输送带进行循环运动，以实现物料的连续输送和热处理。　　3.加热系统：真空甩带炉的加热系统通常采用电阻加热器、感应加热器或辐射加热器等方式。根据热处理要求，加热系统可提供各种加热方式和分区控制，以实现对物料的精确控温。　　4.真空系统：真空甩带炉的真空系统用于提供所需的真空环境。真空系统包括真空泵、真空计、气体冷凝器等设备，能够实现高真空或中真空处理。　　5.控制系统：真空甩带炉配备先进的控制系统，可对温度、气氛、输送速度、真空度等参数进行实时监控和调节。控制系统通常采用PLC、触摸屏等自动化设备，实现精确的热处理过程控制和数据记录。　　总体而言，真空甩带炉具有结构紧凑、操作方便、加热均匀、真空度高等特点。它可以实现对物料的连续处理和精确控温，广泛应用于高温热处理、石墨化、脱气、退火等工艺过程。但是，具体结构特点还会受到不同制造商的设计和技术水平的影响，因此在选择和使用真空甩带炉时，还应考虑到实际需求和设备的性能指标。

　　真空烧结炉烧结过程的优势 　　真空烧结炉主要用于活性金属和难溶金属以及硬质合金，磁性材料和不锈钢等的烧结。真空烧结炉实际上是低压(减压)烧结。真空度愈高，愈接近中性气氛，愈与材料不发生任何化学反应。 　　真空烧结炉的主要优点是： 　　1、有利于排除吸附气体，对促进烧结后期的收缩作用明显。 　　2、真空烧结炉对硅，铝，镁，钙等杂质或其氧化物的排除，起到提纯材料的作用。 　　3、可改善液相烧结的润湿性，有利于烧结过程中的收缩和改善合金的组织结构。 　　4、是理想的惰性气氛，当不宜用其他还原性或惰性气体时，或者对容易出现脱碳，渗碳的材料，均可采用真空烧结炉。 　　5、真空烧结炉减少气氛中的有害成分(水，氧，氮等)对产品的玷污。例如，电解氢中的含水量要求降至***-40℃较为困难;而真空烧结时，真空度只要在数百Pa就相当于含水量为***-40℃。 　　真空下的液相烧结，发生粘结金属的挥发损失是个重要问题。这不仅改变和影响合金的成品成分和组织结构，而且对烧结过程本身也起阻碍作用。粘结金属的挥发损失，主要是在烧结后期(即保温阶段)发生。保温时间长，粘结金属的挥发损失就多。为此，化物杂质，水分等与材料中的碳发生反应，生成CO随炉排出。此时真空烧结炉炉压明显提高，合金中的总碳量降低。显然，碳含量的变化取决于原材料粉末中的氧含量以及烧结时的真空度。两者越高时，生成一氧化碳的反映越容易进行，脱碳也越严重。 　　熔盐电解炉的真空烧结与气体保护烧结的工艺没有根本区别，只是烧结温度低一些，一般可降低到100~150℃。这有利于延长真空烧结炉的寿命和降低电能的消耗。